EDI超纯水设备（二级反渗透+EDI+抛光混床）

　　EDI膜堆主要由替换摆放的阳离子交流膜、浓水室、阴离子交流膜、淡水室和正、负电极组成。在直流电场的效果

　　下，淡水室中离子交流树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道别离向负极和正极方向搬迁，阳离子透过阳

　　离子交流膜，阴离子透过阴离子交流膜，别离进入浓水室构成浓水。一起EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交流树

　　EDI膜堆主要由替换摆放的阳离子交流膜、浓水室、阴离子交流膜、淡水室和正、负电极组成。在直流电场的效果

　　下，淡水室中离子交流树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道别离向负极和正极方向搬迁，阳离子透过阳

　　离子交流膜，阴离子透过阴离子交流膜，别离进入浓水室构成浓水。一起EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交流树

　　脂中的氢离子和氢氧根离子交流，构成超纯水(高纯水)。电流使水电解发生的很多氢离子和氢氧根离子对离子

　　EDI可替代传统的混合离子交流技能(MB-DI)出产安稳的去离子水。EDI技能与混合离子交流技能比较有以下长处:

　　4、进程完成自动控制，产水水质安稳，与RO等水处理技能相结合，能构成完善的纯水、超纯水出产线、产水水质高，可到达国家电子级水I级规范，电阻率为18MΩ·cm。

　　EDI超纯水技能具有技能先进、操作简洁，是清洁出产技能，在微电子工业、电力工业、医药工业、化工工业和实验室等

　　新式的光电资料出产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高质量灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电

　　路板、集成电路需用很多的高纯水、超纯水清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，

　　这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、出产的连续性、可持续性等提出了愈加严厉的要求。

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