EDI超纯水设备

　　凯旭超纯水设备反渗透体系出水电导率≤2-5μs/cm(25℃)进入EDI体系， Electrodeionization 简称EDI是将电渗析膜分离技能与离子交流技能有机地结合起来的一种新的制备超纯水(高纯水)的技能，它使用电渗析进程中的极化现象对填充在淡水室中的离子交流树脂进行电化学ZS

　　EDI超纯水设备(二级反渗透+EDI+抛光混床)原理及简介：凯旭超纯水设备反渗透体系出水电导率≤2-5μs/cm(25℃)进入EDI体系， Electrodeionization 简称EDI是将电渗析膜分离技能与离子交流技能有机地结合起来的一种新的制备超纯水(高纯水)的技能，它使用电渗析进程中的极化现象对填充在淡水室中的离子交流树脂进行电化学ZS，再经过抛光混床体系到达电子级用水规范即电阻率≥18.2MΩ·cm(25℃)。EDI膜堆主要由替换摆放的阳离子交流膜、浓水室、阴离子交流膜、淡水室和正、负电极组成。在直流电场的效果下，淡水室中离子交流树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道别离向负极和正极方向搬迁，阳离子透过阳离子交流膜，阴离子透过阴离子交流膜，别离进入浓水室构成浓水。一起EDI进水中的阳离子和阴离子跟离子交流树脂中的氢离子和氢氧根离子交流，构成超纯水(高纯水)。电流使水电解发生的很多氢离子和氢氧根离子对离子交流树脂进行接连的ZS。传统的离子交流树脂饱满后需求化学间歇ZS。而EDI膜堆中的树脂经过水的电解接连ZS，作业是接连的，不需求酸碱化学ZS。EDI超纯水设备使用范畴：EDI超纯水技能具有技能、操作简洁、是清洁出产技能，在微电子工业、电力工业、医药工业、化工工业和实验室等范畴得到日趋广泛的使用。新式的光电资料出产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、大规模集成电路需用很多的高纯水、超纯水清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、出产的接连性、可持续性等提出了愈加严厉的要求。超纯水设备技能长处：EDI可替代传统的混合离子交流技能(MB-DI)出产安稳的去离子水。EDI技能与混合离子交流技能比较有以下长处:1、离子交流树脂的用量少，约相当于传统离子交流法树脂用量的5%。2、离子交流树脂不需酸，碱化学ZS，节省很多酸、碱和清洗用水，下降劳动强度。3、无废酸、废碱液排放，是清洁的出产技能。4、进程完成自动控制，产水水质安稳，与RO等水处理技能相结合，能构成完善的纯水、超纯水出产线、产水水质高，可到达国家电子级水I级规范，电阻率为18MΩ·cm。6、纯水出产进程接连进行，无需像离子交流床那样一套在用一套ZS地重复设置。

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